按产品线划分的对手名单屹唐半导体三条产品线，各有一群对手。干法去胶设备领域，主要玩家包括韩国比思科、泰仕半导体、日本爱发科、美国泛林半导体。快速热处理设备领域，应用材料一家独大，其他参与者包括国际电气、维易科。干法刻蚀设备领域，泛林半导体、东京电子、应用材料三巨头合计占据83.95%的份额，国内有北方华创、中微公司。各条线上的竞争态势去胶线上，比思科以40.15%的份额领先（2023年），屹唐
同根同源的两种工艺去胶和刻蚀都用等离子体在真空腔里处理晶圆，设备结构有相似之处，外行容易混淆。区别在加工对象和工艺目的上。去胶的目标是光刻胶和残留物，这类有机物和氧气等离子体反应后被分解带走，本质是清扫；刻蚀的目标是硅、氧化硅、氮化硅、金属等无机材料，要按照电路图形把材料刻掉，本质是雕刻。一个除胶，一个刻料。技术要求的差异清扫和雕刻对设备的要求不在一个量级。去胶追求除净率和低损伤，等离子体以化
先弄清楚去胶是什么工序芯片制造过程中，光刻胶扮演着临时模板的角色。光刻机把电路图形转移到涂有光刻胶的晶圆上，完成刻蚀或离子注入之后，这层胶就没用了，必须清除干净——这道工序叫去胶。去胶分湿法和干法两种路线，湿法用化学药液浸泡，干法则利用等离子体把光刻胶分解为气体排走。干法去胶对晶圆表面的损伤小、控制精度高，是先进产线的主流选择。屹唐的设备做什么屹唐半导体的干法去胶设备用于集成电路芯片制造、芯片
成立时间与背景屹唐半导体成立于2015年12月，注册地在北京经济技术开发区。它的诞生和北京亦庄的集成电路产业布局直接相关：亦庄国投作为当地国资平台，希望在上游设备环节落子，于是通过屹唐盛龙这个平台孵化了屹唐半导体。为什么一家2015年底才成立的公司，几年时间就能把设备卖进台积电、三星的产线？关键在于第二年发生的那笔收购。第一阶段：并购拿技术（2016年）2016年5月，屹唐盛龙以约3亿美元总价