物理缺陷物理缺陷是可以直接看到的形貌异常。颗粒污染最常见，微小粉尘落在晶圆上，经过刻蚀或沉积后变成永久缺陷。图形异常包括线条桥接、断线、缺角，多由光刻或刻蚀工艺波动引起。还有划伤、残留物、结晶缺陷等，形态各异。电性缺陷电性缺陷隐蔽得多。芯片内部某处开路或短路，表面形貌可能完全正常，但电路功能失效。这类缺陷靠光学手段难以发现，需要电子束检测设备利用电压对比效应识别——带电状态不同的区域在电子束下
产品定位PanGenSim是东方晶源的严格光刻仿真软件。“严格”二字在光学领域有特定含义：基于严格的电磁场理论求解光刻过程中的光学成像，而不是用简化模型近似。它回答的是光刻仿真中最较真的一类问题。什么场景需要严格仿真常规OPC仿真用紧凑模型，速度快，满足量产需求。但在一些边界场景——比如新型掩模结构、三维掩模效应显著的情形、模型标定前的机理研究——简化模型的精度不够。严格仿真从麦克斯韦方程出发
国家科技重大专项参与情况东方晶源及子公司承担了国家科技重大专项（02专项）的相关课题。02专项全称是“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项，专门支持国产集成电路装备和工艺攻关。公司承担的具体课题包括“电子束硅片图形缺陷检测设备研发与产业化项目”以及“国产浸没光刻机计算光刻系统的研制”。两个课题的分量电子束硅片图形缺陷检测设备对应的就是EBI产品线。这类设备技术难度高，国内长期依
总部所在地东方晶源的总部在北京市经济技术开发区，也就是亦庄。这里是北京“高精尖”产业主阵地，聚集了中芯国际、北方华创等一批集成电路企业。公司2014年创立时就锚定亦庄的产业方向，如今总部大楼也坐落于此。为什么选择亦庄半导体设备公司离不开产业链配套。亦庄有晶圆厂、有设备同行、有政策扶持，还有成熟的人才池。东方晶源在这里形成了产业协同效应，北京经开区官网将其称为扎根并成长于亦庄的集成电路良率管理领